EN Electronics advanced materials for chemical vapor deposition (CVD) and atomic layer deposition (ALD)
EN Electronics advanced materials for chemical vapor deposition (CVD) and atomic layer deposition (ALD)
FR les matériaux électroniques avancés pour le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) et le dépôt par couche atomique (ALD)
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EN Hydrogen is also used in EUV (Extrem Ultraviolet) tools to minimize Sn deposition, as well as a co-reactant in (PE)ALD processes (Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition).
FR Il est également utilisé par les outils EUV (Extrem Ultraviolet) afin de minimiser le dépôt d'étain (Sn), et comme réactif dans le procédé de dépôt de couches atomiques assisté ou non par plasma (PE) ALD.
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tools | outils |
minimize | minimiser |
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EN Oxygen is used as reactant in CVD (Chemical Vapor Deposition) and ALD (Atomic Layer Deposition) for depositing oxides
FR L'oxygène est utilisé comme réactif pour le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) et le dépot par couche atomique (ALD) des oxydes
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EN Other electrolytic deposition equipment
FR Autres équipements pour dépôt électrolytique
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other | autres |
equipment | équipements |
EN Sonix accurately transcribes, timestamps, and organizes all of your legal recordings so they are easy to search, edit, and share. Get a readable transcript of that urgent deposition in record time.
FR Sonix transcrit, horodatage et organise avec précision tous vos enregistrements légaux afin qu'ils soient faciles à rechercher, à modifier et à partager. Obtenez une transcription lisible de cette déposition urgente en un temps record.
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transcribes | transcrit |
organizes | organise |
legal | légaux |
search | rechercher |
share | partager |
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urgent | urgente |
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edit | modifier |
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accurately | avec précision |
time | temps |
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EN Need an hour-long deposition or call transcribed quickly and securely? We'll automatically transcribe it in under 5 minutes with our automated algorithms.
FR Vous avez besoin d'un dépôt d'une heure ou d'un appel transcrit rapidement et en toute sécurité ? Nous le transcrirons automatiquement en moins de 5 minutes avec nos algorithmes automatisés.
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call | appel |
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algorithms | algorithmes |
securely | sécurité |
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automated | automatisé |
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EN The world’s first metal 3D printer utilising supersonic 3D deposition. The technology manufactures fast, low-cost, near net shape parts suitable for commercial and industrial applications.
FR La première imprimante 3D métal au monde utilisant un dépôt 3D supersonique. La technologie fabrique des pièces rapides, peu coûteuses et de forme quasi nette adaptées aux applications commerciales et industrielles.
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EN The world’s first large format metal 3D printer utilising supersonic 3D deposition. The technology manufactures fast, low-cost, near net shape parts suitable for commercial and industrial applications.
FR La première imprimante 3D métal grand format au monde utilisant un dépôt 3D supersonique. Cette technologie permet de fabriquer des pièces rapides, peu coûteuses et de forme quasi nette adaptées aux applications commerciales et industrielles.
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metal | métal |
printer | imprimante |
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commercial | commerciales |
industrial | industrielles |
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utilising | utilisant |
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EN They are used to inert the manufacturing environment, or as deposition and etching materials for the manufacturing of chips and flat panels
FR Ils sont utilisés pour rendre l’environnement de fabrication inerte, ou comme matériaux de dépôt et de gravure pour la fabrication des puces et des écrans plats
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EN Founded in 2001, Aveni provides an innovative copper and cobalt electro-deposition technology to the semiconductor industry
FR Fondé en 2001, Aveni fournit une technologie innovante de dépôt électrolytique de cuivre et de cobalt dans l'industrie des semi-conducteurs
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innovative | innovante |
copper | cuivre |
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technology | technologie |
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EN The CDF project focuses on the laser metal deposition (LMD) additive manufacturing process which is used to generate and repair 3D workpieces by metal powder spraying. Read more
FR Le Pôle de compétitivité Systematic Paris-Region vous donne rendez-vous mardi 5 juin, au Théâtre de Paris, pour la 13è édition de sa Convention annuelle sur le thème « Systematic 4.0, pôle ... Lire la suite
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EN Create, control, and simulate deposition strategies for driving high-rate additive processes.
FR Créez, contrôlez et simulez des stratégies de dépôt générant des processus additifs haut débit.
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simulate | simulez |
rate | débit |
strategies | stratégies |
processes | processus |
control | contrôlez |
high | haut |
EN PVD stands for “Physical Vapor Deposition” (also known as IP coating)
FR PVD signifie » Physical vapor deposition » (appelé également revêtement IP)
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coating | revêtement |
ip | ip |
for | signifie |
also | également |
EN Essentially, it is a method of vacuum deposition that enables us to color our stainless steel cases
FR Fondamentalement, c’est une méthode de dépôt sous vide qui permet de colorer nos boîtiers en acier inoxydable
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method | méthode |
vacuum | vide |
enables | permet |
cases | boîtiers |
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stainless | inoxydable |
steel | acier |
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EN In 2013 he joined the IRSTEA (ex-CEMAGREF) to carry out a doctoral thesis on the control of solid transport of torrents by torrential correction works and deposition ranges
FR En 2013 il rejoint l’IRSTEA (ex-CEMAGREF) pour réaliser une thèse de doctorat sur le contrôle du transport solide des torrents par les ouvrages de correction torrentielle et les plages de dépôt
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doctoral | doctorat |
thesis | thèse |
control | contrôle |
torrents | torrents |
correction | correction |
works | ouvrages |
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transport | transport |
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joined | rejoint |
carry | réaliser |
solid | solide |
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EN Rather than using heat to melt metal powders, SPEE3D developed ‘Supersonic 3D Deposition’
FR Plutôt que d'utiliser la chaleur pour faire fondre les poudres métalliques, SPEE3D a développé le «dépôt 3D supersonique»
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heat | chaleur |
melt | fondre |
powders | poudres |
developed | développé |
to | plutôt |
EN The CDF project focuses on the laser metal deposition (LMD) additive manufacturing process which is used to generate and repair 3D workpieces by metal powder spraying. (more?) Read more
FR Organisée par OPTIS, la conférence ADmoSens se tiendra les 13 et 14 juin dans les locaux de l'IRT SystemX sur les thèmes des capteurs, de la simulation et des tests virtuels. (suite…) Lire la suite
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EN For each layer, a complex and precise process of material deposition, resist application, lithography, etching, and ion implantation is performed, after which the resist is removed.
FR Pour chacune d’elles, un processus complexe et précis qui consiste à déposer le matériau, appliquer l’épargne, lithographier, graver et implanter des ions est mis en œuvre, après quoi l’épargne est retirée.
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complex | complexe |
process | processus |
material | matériau |
removed | retiré |
application | appliquer |
ion | ions |
is | consiste |
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precise | précis |
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EN Learn more about the design process using fused deposition modelling (FDM) 3D printing technology through the power of a very flexible modelling workflow in Fusion 360 software.
FR Découvrez le procédé de conception à l'aide de la technologie d'impression 3D FDM (Fused Depot Modeling) grâce à la puissance du workflow de modélisation très flexible du logiciel Fusion 360.
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EN Learn more about the design process using fused deposition modelling (FDM) 3D printing technology through the power of a very flexible modelling workflow in Fusion 360 software.
FR Découvrez le procédé de conception à l'aide de la technologie d'impression 3D FDM (Fused Depot Modeling) grâce à la puissance du workflow de modélisation très flexible du logiciel Fusion 360.
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EN Learn more about the design process using fused deposition modelling (FDM) 3D printing technology through the power of a very flexible modelling workflow in Fusion 360 software.
FR Découvrez le procédé de conception à l'aide de la technologie d'impression 3D FDM (Fused Depot Modeling) grâce à la puissance du workflow de modélisation très flexible du logiciel Fusion 360.
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EN Learn more about the design process using fused deposition modelling (FDM) 3D printing technology through the power of a very flexible modelling workflow in Fusion 360 software.
FR Découvrez le procédé de conception à l'aide de la technologie d'impression 3D FDM (Fused Depot Modeling) grâce à la puissance du workflow de modélisation très flexible du logiciel Fusion 360.
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FR Découvrez le procédé de conception à l'aide de la technologie d'impression 3D FDM (Fused Depot Modeling) grâce à la puissance du workflow de modélisation très flexible du logiciel Fusion 360.
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FR Découvrez le procédé de conception à l'aide de la technologie d'impression 3D FDM (Fused Depot Modeling) grâce à la puissance du workflow de modélisation très flexible du logiciel Fusion 360.
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FR Découvrez le procédé de conception à l'aide de la technologie d'impression 3D FDM (Fused Depot Modeling) grâce à la puissance du workflow de modélisation très flexible du logiciel Fusion 360.
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FR Découvrez le procédé de conception à l'aide de la technologie d'impression 3D FDM (Fused Depot Modeling) grâce à la puissance du workflow de modélisation très flexible du logiciel Fusion 360.
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FR Découvrez le procédé de conception à l'aide de la technologie d'impression 3D FDM (Fused Depot Modeling) grâce à la puissance du workflow de modélisation très flexible du logiciel Fusion 360.
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FR Découvrez le procédé de conception à l'aide de la technologie d'impression 3D FDM (Fused Depot Modeling) grâce à la puissance du workflow de modélisation très flexible du logiciel Fusion 360.
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FR Découvrez le procédé de conception à l'aide de la technologie d'impression 3D FDM (Fused Depot Modeling) grâce à la puissance du workflow de modélisation très flexible du logiciel Fusion 360.
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EN By changing the pyrolysis deposition conditions, carbon nanowires would be obtained
FR En modifiant les conditions de dépôt par pyrolyse, on obtient des nanofils de carbone
Engleski | francuski |
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carbon | carbone |
changing | modifiant |
conditions | conditions |
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EN The focus of the visit of the Chinese entrepreneurs was the "Powder-Feed 3D Printing Technology" (also called "Laser Deposition Welding) which is being researched at Hoffmann's Laboratory for "Advanced Materials Processing"
FR Le point central de la visite des entrepreneurs chinois était la "technologie d'impression 3D à alimentation par poudre" - en anglais : Laser Deposition Welding - dans le laboratoire "Advanced Materials Processing" de Hoffmann
Engleski | francuski |
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visit | visite |
entrepreneurs | entrepreneurs |
technology | technologie |
laser | laser |
laboratory | laboratoire |
advanced | advanced |
processing | processing |
feed | alimentation |
powder | poudre |
materials | materials |
at | à |
was | était |
of | de |
chinese | chinois |
EN In laser deposition welding, metal powder is dosed directly into a laser beam
FR Dans le soudage par dépôt laser, la poudre métallique est dosée directement dans un faisceau laser
Engleski | francuski |
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laser | laser |
welding | soudage |
powder | poudre |
directly | directement |
beam | faisceau |
a | un |
is | est |
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EN Argon is used in plasma etching processes. Argon is used in PVD processes (Physical Vapor Deposition). It is also used for Silicon ingot crystal pulling.
FR L'argon est utilisé dans les procédés de gravure par plasma. L'argon est également utilisé dans les procédés de DPV (Dépôt physique en phase vapeur), ainsi que pour le tirage de lingots de silicium.
Engleski | francuski |
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plasma | plasma |
etching | gravure |
physical | physique |
vapor | vapeur |
silicon | silicium |
processes | procédés |
used | utilisé |
also | également |
is | est |
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EN Acetylene is used as a precursor for amorphous carbon hard mask deposition. It is also used as a carbon source for SiC and SiCN films.
FR L'acétylène est utilisé comme précurseur pour le masque de carbone amorphe lors du dépôt chimique en phase vapeur activé par plasma (PECVD). C'est également une source de carbone pour certaines couches de carbonitrure de silicium.
Engleski | francuski |
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carbon | carbone |
mask | masque |
source | source |
used | utilisé |
as | comme |
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also | également |
is | est |
EN Ammonia takes part of deposit silicon nitride by Chemical Vapor Deposition (CVD) in semiconductor and advanced materials manufacturing.
FR L'ammoniac intervient dans le dépôt du nitrure de silicium par dépôt chimique en phase vapeur (CVD) lors de la production de semi-conducteurs ou de matériaux avancés.
Engleski | francuski |
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takes | . |
deposit | dépôt |
silicon | silicium |
chemical | chimique |
vapor | vapeur |
semiconductor | semi-conducteurs |
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materials | matériaux |
part | du |
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advanced | avancé |
EN Helium is used as a carrier gas or push gas to convey deposition precursors to the reaction chamber. Helium is used in gas mixes used for purging different lenses.
FR L'hélium est utilisé comme gaz vecteur ou gaz de poussée pour permettre le dépot des précurseurs dans la chambre de réaction. L'hélium est utilisé en mélange pour purger les différents lentilles.
Engleski | francuski |
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gas | gaz |
push | poussée |
reaction | réaction |
chamber | chambre |
lenses | lentilles |
used | utilisé |
or | ou |
as | comme |
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different | différents |
EN In semiconductor and display manufacturing, nitrous oxide can be the oxygen source for Chemical Vapor Deposition (CVD) of silicon oxynitride (doped or undoped) or silicon dioxide.
FR Dans le processus de fabrication des semi-conducteurs et des écrans, le protoxyde d'azote peut constituer une source d'oxygène pour le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) de l'oxynitrure de silicium (dopé ou non) et du dioxyde de silicium.
Engleski | francuski |
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semiconductor | semi-conducteurs |
chemical | chimique |
vapor | vapeur |
silicon | silicium |
dioxide | dioxyde |
display | écrans |
source | source |
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manufacturing | fabrication |
of | de |
the | le |
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can | peut |
EN In silicon thin film photovoltaic, semiconductor and display fabrication, nitrogen trifluoride is used as a fluorine source to clean Chemical Vapor Deposition (CVD) reactors
FR Dans la fabrication des cellules photovoltaïques à couches minces de silicium, des semi-conducteurs et des écrans, le trifluorure d'azote est utlisé comme source de fluor pour le nettoyage des réacteurs de dépôt chimique en phase vapeur
Engleski | francuski |
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silicon | silicium |
thin | minces |
semiconductor | semi-conducteurs |
source | source |
chemical | chimique |
vapor | vapeur |
display | écrans |
clean | nettoyage |
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EN Hydrogen chloride is used in semiconductor fabrication for etching of native oxide, Chemical Vapor Deposition (CVD) reactor cleaning or moisture getter.
FR Dans la fabrication des semi-conducteurs, le chlorure d'hydrogène est utilisé pour la gravure d'oxyde natif, le nettoyage des réacteurs de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) ou comme absorbeur d'humidité.
Engleski | francuski |
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semiconductor | semi-conducteurs |
fabrication | fabrication |
etching | gravure |
native | natif |
chemical | chimique |
vapor | vapeur |
used | utilisé |
or | ou |
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of | de |
in | en |
cleaning | nettoyage |
EN It is also used in display fabrication for the cleaning of the Chemical Vapour Deposition (CVD) reactors.
FR Dans la fabrication des écrans, il sert aussi pour le nettoyage des réacteurs de dépôt chimique en phase vapeur (CVD).
Engleski | francuski |
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fabrication | fabrication |
chemical | chimique |
vapour | vapeur |
display | écrans |
it | il |
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