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FR les matériaux électroniques avancés pour le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) et le dépôt par couche atomique (ALD)

• matériaux électroniques avancés
• vapeur
• CVD
• dépôt par couche
• ALD

FR Les technologies fondées sur le vide, comme les revêtement PVD/CVD modernes ou le HIPIMS réactif, prolongent la durée de vie des outils dans les processus de fabrication des cellules

• vide
• revêtement PVD
• CVD modernes
• HIPIMS réactif
• prolongent la durée
• fabrication des cellules

FR L'ammoniac intervient dans le dépôt du nitrure de silicium par dépôt chimique en phase vapeur (CVD) lors de la production de semi-conducteurs ou de matériaux avancés.

• dépôt du nitrure
• silicium par dépôt
• phase vapeur
• CVD
• semi-conducteurs
• matériaux

FR L'oxygène est utilisé comme réactif pour le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) et le dépot par couche atomique (ALD) des oxydes

• L'oxygène est utilisé
• chimique en phase
• CVD
• dépot par couche
• ALD
• oxydes

FR Dans le processus de fabrication des semi-conducteurs et des écrans, le protoxyde d'azote peut constituer une source d'oxygène pour le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) de l'oxynitrure de silicium (dopé ou non) et du dioxyde de silicium.

• processus de fabrication
• semi-conducteurs
• écrans
• vapeur
• CVD
• l'oxynitrure de silicium
• dopé

FR Dans la fabrication des semi-conducteurs, le chlorure d'hydrogène est utilisé pour la gravure d'oxyde natif, le nettoyage des réacteurs de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) ou comme absorbeur d'humidité.

• fabrication des semi-conducteurs
• gravure d'oxyde natif
• nettoyage des réacteurs
• vapeur
• CVD
• absorbeur

FR Dans la fabrication des écrans, il sert aussi pour le nettoyage des réacteurs de dépôt chimique en phase vapeur (CVD).

• fabrication des écrans
• nettoyage des réacteurs
• vapeur
• CVD

FR Le silane est utilisé dans la fabrication des semi-conducteurs pour le dépôt du silicium polycristallin et silicium épitaxié ainsi que comme source de silicium pour dépôt chimique en phase vapeur (CVD) de SIO2, Si3n4

• silane est utilisé
• fabrication des semi-conducteurs
• dépôt du silicium
• source de silicium
• vapeur
• CVD