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ترجمة "cvd" إلى إنجليزي

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ترجمة فرنسي إلى إنجليزي من cvd

فرنسي
إنجليزي

FR les matériaux électroniques avancés pour le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) et le dépôt par couche atomique (ALD)

EN Electronics advanced materials for chemical vapor deposition (CVD) and atomic layer deposition (ALD)

فرنسي إنجليزي
matériaux materials
électroniques electronics
chimique chemical
vapeur vapor
couche layer
atomique atomic
ald ald
et and
pour for
avancé advanced

FR Les technologies fondées sur le vide, comme les revêtement PVD/CVD modernes ou le HIPIMS réactif, prolongent la durée de vie des outils dans les processus de fabrication des cellules

EN Vacuum based technologies like modern PVD/CVD coating or reactive HIPIMS extend tool life in chipping processes

فرنسي إنجليزي
vide vacuum
revêtement coating
modernes modern
réactif reactive
ou or
vie life
processus processes
technologies technologies
outils tool
comme like
dans in
fondées based

FR L'ammoniac intervient dans le dépôt du nitrure de silicium par dépôt chimique en phase vapeur (CVD) lors de la production de semi-conducteurs ou de matériaux avancés.

EN Ammonia takes part of deposit silicon nitride by Chemical Vapor Deposition (CVD) in semiconductor and advanced materials manufacturing.

فرنسي إنجليزي
dépôt deposit
silicium silicon
chimique chemical
vapeur vapor
semi-conducteurs semiconductor
. takes
de of
matériaux materials
production manufacturing
du part
en in
par by
avancé advanced

FR L'oxygène est utilisé comme réactif pour le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) et le dépot par couche atomique (ALD) des oxydes

EN Oxygen is used as reactant in CVD (Chemical Vapor Deposition) and ALD (Atomic Layer Deposition) for depositing oxides

فرنسي إنجليزي
chimique chemical
vapeur vapor
couche layer
atomique atomic
ald ald
utilisé used
est is
comme as
en in
pour for
et and

FR Dans le processus de fabrication des semi-conducteurs et des écrans, le protoxyde d'azote peut constituer une source d'oxygène pour le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) de l'oxynitrure de silicium (dopé ou non) et du dioxyde de silicium.

EN In semiconductor and display manufacturing, nitrous oxide can be the oxygen source for Chemical Vapor Deposition (CVD) of silicon oxynitride (doped or undoped) or silicon dioxide.

فرنسي إنجليزي
semi-conducteurs semiconductor
écrans display
chimique chemical
vapeur vapor
silicium silicon
dioxyde dioxide
source source
ou or
le the
de of
fabrication manufacturing
et and
en in
peut can
pour for

FR Dans la fabrication des semi-conducteurs, le chlorure d'hydrogène est utilisé pour la gravure d'oxyde natif, le nettoyage des réacteurs de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) ou comme absorbeur d'humidité.

EN Hydrogen chloride is used in semiconductor fabrication for etching of native oxide, Chemical Vapor Deposition (CVD) reactor cleaning or moisture getter.

فرنسي إنجليزي
fabrication fabrication
semi-conducteurs semiconductor
utilisé used
gravure etching
natif native
chimique chemical
vapeur vapor
ou or
est is
de of
pour for
nettoyage cleaning
en in

FR Dans la fabrication des écrans, il sert aussi pour le nettoyage des réacteurs de dépôt chimique en phase vapeur (CVD).

EN It is also used in display fabrication for the cleaning of the Chemical Vapour Deposition (CVD) reactors.

فرنسي إنجليزي
fabrication fabrication
écrans display
chimique chemical
vapeur vapour
il it
de of
nettoyage cleaning
en in
pour for

FR Le silane est utilisé dans la fabrication des semi-conducteurs pour le dépôt du silicium polycristallin et silicium épitaxié ainsi que comme source de silicium pour dépôt chimique en phase vapeur (CVD) de SIO2, Si3n4

EN Silane is used in semiconductor manufacturing for polysilicon and epitaxial silicon deposition, as well as the silicon source for SiO2, Si3N4, by CVD

فرنسي إنجليزي
utilisé used
fabrication manufacturing
semi-conducteurs semiconductor
silicium silicon
source source
en in
si and
comme as

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cvd